摘要: 一如之前爆料的那样,Intel今天正式宣布了新的半导体投资计划,将在美国俄亥俄州投资200亿美元建设新的晶圆厂,整个投资计划最多可达1000亿美元,Intel表示最终目标要建成全球最大的芯片制造基地。 IntelC...
一如之前爆料的那样,Intel今天正式宣布了新的半导体投资计划,将在美国俄亥俄州投资200亿美元建设新的晶圆厂,整个投资计划最多可达1000亿美元,Intel表示最终目标要建成全球最大的芯片制造基地。 Intel CEO基辛格表示,英特尔将在新址生产一些最先进的处理器。 他说,头两家工厂的规划将立即启动,预计将于2022年晚些时候开始建设,2025年投产。移动终端为BGAType3集成封装,测量52次。25次;3毫米,最大68.14核,96单元核显示。 该公司还承诺出资1亿美元,与教育机构合作,建立人才管道,支持该地区的研究项目。。 基辛格指出,半导体行业的年总销售额刚刚超过5000亿美元,预计到2029年将增长一倍。 他说,作为CEO,他的目标是扩大Intel在这个不断增长的市场上的份额,所以必须以一倍以上的速度进行投资和扩大产能。 在2021年,基辛格接任CEO位置仅仅1个月后就宣布了IDM 2.0战略,大举投资半导体制造,去年已经宣布了200亿美元在亚利桑那州建设2座晶圆厂,分别会命名为Fab 52,Fab 62,并首次透露这些工厂将会在2024年量产20A工艺,这是Intel首个埃米级工艺。 。 中国商业网资讯门户;更多内容请关注中国商业网各频道、栏目资讯免责声明:凡本站注明 “来自:(非中国商业网)”的新闻稿件和图片作品,系本站转载自其它媒体,转载目的在于信息传递,并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责 |
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