摘要: 日前,韩国半导体工业协会成立30年纪念活动在首尔举办。 与会期间,SK海力士CEOSeok—heeLee和媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂相关情况。由于目前在SK海力士旗下从事芯片代工的SK海力士系统集成电路与...
日前,韩国半导体工业协会成立30年纪念活动在首尔举办。 与会期间,SK海力士CEO Seok—hee Lee和媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂相关情况。由于目前在SK海力士旗下从事芯片代工的SK海力士系统集成电路与KeyFoundry的芯片代工能力相当,收购完成后SK海力士的芯片代工能力将翻倍。。 关于EUV光刻机进厂可能延期的问题,李锡熙表示,正与美方合作,进展良好EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用,中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通 根据消息显示,SK海力士将基于EUV光刻机制造10nm DRAM芯片,也就是第四代内存无锡工厂同样计划应用相关技术,目前正寻求多种途径克服困难,毕竟它是一家韩国企业 资料显示,无锡海力士工厂的DRAM产能大约占SK海力士全球产能的15%。 。 中国商业网资讯门户;更多内容请关注中国商业网各频道、栏目资讯免责声明:凡本站注明 “来自:(非中国商业网)”的新闻稿件和图片作品,系本站转载自其它媒体,转载目的在于信息传递,并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责 |
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